Низкий-K диэлектриков рынка достичь $ 400 к 2006 году - Новости - доклад исследователей Клайн и Ко

Несмотря на медленное принятие низкого к диэлектриков, долгосрочный потенциал рынка по-прежнему сильный, с рынка с низким уровнем А диэлектриков-материалов как ожидается, увеличится с $ 16 млн в этом году около $ 400 млн к 2006 году, говорится в новом докладе исследователей Клайн

По словам Джона Дэвиса, бизнес-менеджер по Клайн

Клайн говорит, что ранее ожидал рынок диэлектриков подняться в воздух в 2001 и 2002 годах. Ее новый доклад представляет собой обновленный аналогичные исследования, опубликованного в начале 2000 года. Одной из главных причин 2-летней задержки был спад, что вызвало спад в производстве. Тем не менее, спад сделал небольшой вмятины на передовых технологий, требующих снижения сопротивления, емкости (RC). Еще одной причиной для задержки рынка опасаются, что низкий-K диэлектриков, будет ненадежным и что они вряд ли будут, изготовленных в высокой урожайностью. Клайн говорит, эта проблема была рассмотрена пересмотра схем для минимизации задержки RC путем введения триметилсилана по 130-нм узла, а также подчеркивая меди за роман диэлектриков, как интеграция маршрут выбор.

Исследовательской компании также отметил, определенных технических разработок в области низких к области. Dow Chemical, Dow Corning, Honeywell и Шипли среди компаний, разрабатывающих спин-на остановке травления материалов в дополнение к межуровневых диэлектриков (МН), которые они разрабатывают. Silico-органический материал широко предложил для этих целей.

Клайн говорит, Dow Corning, Honeywell, и почти каждый второй разработчик спин-о прекурсорах также разрабатывают пористых диэлектриков. Dow Chemical уже разработали пористый версию своего плотного Шелковый полифенилен для 100 нм и ниже правила дизайна.